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高誘電率材料薄膜の形成

概要 研究技術内容

情報化社会の高度化を支え続けるために、次世代半導体素子用のhigh-kゲート絶
縁膜形成技術を研究しています。
基板材料の半導体の上に絶縁膜材料の高誘電率薄膜をいかに薄く均一に上手に
形成するかがポイントです。

写真・図（要点説明）


活用方向

半導体素子（メモリなど）

学科・研究者

学科名 電子システム工学科
分野 材料・エレクトロニクス
研究者 王谷　洋平
主研究テーマ 金属・誘電体薄膜の形成
主要キーワード 薄膜・金属・誘電体・スパッタ・真空蒸着

特記事項

シーズの熟度 基礎研究