カバー無しで酸素濃度100ppm
分類NO: 5-5031
概要
・基板やパッケージに共晶材(AuSn等)を置きその後チップを実装するマニュアル共晶ダイボンダーです。
・特許取得の機構により、カバー無しでステージ上の酸素濃度100ppm以下を実現しました。
・作業性に優れ、効率化と安定した共晶ダイボンディングが可能になりました。
ステージ(製品吸着部)の仕様については、設計製作いたしますので、様々な製品に対応可能です。
・特許取得の機構により、カバー無しでステージ上の酸素濃度100ppm以下を実現しました。
・作業性に優れ、効率化と安定した共晶ダイボンディングが可能になりました。
ステージ(製品吸着部)の仕様については、設計製作いたしますので、様々な製品に対応可能です。
写真・図(要点説明)
企業概況
企業・団体名 | 株式会社 後島精工 | 地域 | 長野県内 |
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住所 | 〒382-0071 長野県須坂市小河原2171-5 |
電話・FAX | TEL: 026-245-7217 FAX: 026-248-3836 |
業種 | 金属加工,その他製品 | ホームページ | http://www.gotoseiko.jp/ |
代表メールアドレス | info@gotoseiko.jp | ||
担当者 | 後島 奈保子 | 担当者メールアドレス (このひとわざの担当者) |
info@gotoseiko.jp |
企業紹介 |
特記事項
特許取得・各種認証等取得状況 | ・電子部品収容用トレイ 特許第4511990号 - 2010年5月14日 ・メッキ加工用治具の製造方法 特許第6164920号 - 2017年6月30日 ・ボンディング装置の不活性ガスフローシステム 特許第6419256号 - 2018年10月19日 他 |
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